powrót
Stanowisko
Opiekun publiczności w galerii sztuki
Umowa
dzieło / na zlecenie
Miasto
Warszwa
Województwo
Mazowieckie
Wykształcenie
wyższe
Czas trwania oferty

31.01 14.02

Opis stanowiska

Opiekun publiczności w galerii sztuki

Wymagania

student kierunków artystycznych/humanistycznych (preferowane kierunki: historia sztuki, studia na ASP, kulturoznawstwo, socjologia, psychologia)

wysoka kultura osobista

szeroka wiedza dotycząca sztuki współczesnej

zainteresowanie aktualnymi trendami świata sztuki

komunikatywność, otwartość, łatwość nawiązywania rozmowy

znajomość języka angielskiego na poziomie komunikatywnym (znajomość innych języków będzie dodatkowym atutem)

umiejętność płynnego i klarownego formułowania wypowiedzi

Oferujemy

ciekawą, kreatywną pracę w jednej z najbardziej prestiżowych galerii sztuki współczesnej w Polsce

pracę w młodym, otwartym zespole

spotkania edukatorskie z kuratorami wystaw

możliwość zaangażowania się w pracę przy tworzeniu nowych wystaw

możliwość uczestniczenia w specjalnych wydarzeniach zamkniętych, organizowanych przez galerię

 

Warunki aplikowania

Oferta skierowana jest do studnetów kierunków artystycznych (ASP, historia sztuki) bądź humanistycznych (psychologia, socjologia), dyspozycyjnych w określone dni w godzinach pracy galerii (wtorek-niedziela, 12:00 - 20:00).

Warunkiem koniecznym jest zaintersowanie sztuką współczesną, szeroka wiedza na jej temat oraz znajomość języka angielskiego w stopniu umożliwiającym swobodne komunikowanie się.

Aplikację należy przesłać drogą e-mailową na adres: alicja.malicka@klavo.pl z dopiskiem w tytule: Warszawa - Opiekun publiczności w Instytucji Kultury

Do aplikacji prosimy dołączyć oświadczenie: „Wyrażam zgodę na przetwarzanie moich danych osobowych dla potrzeb niezbędnych w procesie rekrutacji, zgodnie z Ustawą z dnia 29 sierpnia 1997 r. o ochronie danych osobowych (Dz.U. 1997 nr 133 poz. 883)”.

Uprzejmie informujemy, że skontaktujemy się z wybranymi kandydatami.

Pracuj w kulturze nie odpowiada za ewentualne błędy w ogłoszeniu.